Im Rahmen eines MEDEA+ Projekts 2002 – 2006 konzentrierte sich IMS Nanofabrication auf das Multistrahl-Direktschreiben. Erstes Etappenziel: 1.000 draht-adressierte, programmierbare Elektronenstrahlen. Während des EU-Projekts “CHARPAN” (Charged Particle Nanotech) konnte im Februar 2007 ein Prototyp mit einer 200-fachen Ionen-optischen Projektionsverkleinerung realisiert werden. Im September 2007 wurden erste Multistrahl-Schreibresultate mit 1.000 programmierbaren Strahlen auf der Maskenkonferenz in Monterey präsentiert. Das weckte das Interesse des US-Halbleiter-Konzerns Intel Corporation.

Ende 2008 gelang IMS Nanofabrication die Integration einer CMOS-adressierbaren Einheit für die Bereitstellung von 43.000 ansteuerbaren Strahlen in der Ionenstrahlgröße von 12,5 Nanometer. Gleichzeitig wurde im Rahmen des “RIMANA”-EU-Projekts (Radical Innovation Maskless Nanolithography) ein Elektronen-optischer Aufbau mit 200-facher Verkleinerung und 2.500 programmierbaren Elektronenstrahlen realisiert. Diese Innovation führte 2009 zu einem ersten Investment von Intel.

IMS entwickelte einen IPL-Prototyp, der offene Maskenstrukturen auf das Silizium-Wafer-Substrat von Stencil-Masken mit 4-fach verkleinernder Ionen-Projektions-Optik übertrug. Damit wurde 2001 eine Auflösung unter 50 Nanometer erreicht.

2001 beschloss die Halbleiterindustrie, auf EUVL (Extreme Ultraviolet Lithography) zu setzen und die weitere Entwicklung von IPL zu beenden. IMS entwickelte 1999 – 2001 bereits Konzepte für eine Multistrahl-Lithographie und wurde 2001 in IMS Nanofabrication umbenannt.

IMS (= Ionen Mikrofabrikations Systeme) wurde im Februar 1985 mit Venture Capital in Wien gegründet. Ab 1986 entwickelte IMS im Rahmen des EUREKA-Projekts zwei Ionen-Projektions-Lithographie (IPL) -Forschungsgeräte, das erste ging 1988 an das damalige Fraunhofer-Institut für Mikrostrukturtechnik in West-Berlin, das zweite wurde 1989 im Auftrag der TU Wien realisiert.