Skip to main content
News

BACUS 2024 Lifetime Achievement Award für IMS-Mitbegründer Hans Loeschner

By 22. Oktober 2024No Comments

Es freut uns, bekannt geben zu dürfen, dass Hans Loeschner, unser Mitbegründer und Senior Advisor, für seinen Beitrag zur Entwicklung der IMS-Technologie für Elektronen-Multistrahl-Maskenschreiber (MBMW) mit dem BACUS 2024 Lifetime Achievement Award ausgezeichnet worden ist. Die Auszeichnung wurde ihm am 2. Oktober 2024 auf der SPIE Photomask Technology and Extreme Ultraviolet Lithography Konferenz in Monterey, Kalifornien verliehen.

Wie Jed Rankin, Präsident von BACUS, in seiner Rede betonte, wurde diese Technologie wahrscheinlich in etwa 95 % der Präsentationen auf der diesjährigen BACUS Konferenz erwähnt, da sie es der Fotomaskenbranche erst ermöglichte, ihren Siegeszug fortzusetzen und der Schlüssel zum Erfolg der High-NA-EUV-Lithographie ist.

Hans war Mitbegründer der IMS- Ionen Mikrofabrikations Systeme GmbH im Jahre 1985 und der IMS Nanofabrication GmbH im Jahre 2001. Im Laufe seiner Karriere hat Hans zu über 20 Patenten beigetragen und ist Co-Autor von mehr als 200 wissenschaftlichen Publikationen. Er ist Mitglied des Programmkomitees der internationalen Konferenz SPIE Advanced Lithography – Novel Patterning Technologies sowie Program Chair der European Mask and Lithography Conference (EMLC) 2025. 2012 erhielt er den MNE Fellowship Award und 2017 – zusammen mit IMS CEO Elmar Platzgummer – den BACUS Prize Award.

„Das ist ein bedeutender Moment voller Stolz für uns alle bei IMS. Hans Loeschners Vision und seine Begeisterung für unsere Technologie haben unser Unternehmen und die gesamte Halbleiterindustrie maßgeblich geprägt. Die Auszeichnung zeugt von seinem Pioniergeist und seinem unermüdlichen Engagement, die Grenzen unserer Branche immer wieder neu zu definieren, und er ist und bleibt für uns alle eine Inspiration“, so IMS CEO Elmar Platzgummer.

Der BACUS Lifetime Achievement Award wird von der BACUS Photomask Technical Group verliehen, um eine Person zu ehren, die im Laufe ihres Lebens einen besonderen Beitrag von herausragender unternehmerischer oder technischer Bedeutung für die Fotomaskenindustrie geleistet hat. SPIE, die internationale Gesellschaft für Optik und Photonik, die 1955 gegründet wurde, bringt Ingenieure und Ingenieurinnen, Wissenschaftler:innen, Studierende und Geschäftsleute zusammen, um diese Wissenschaft und Technologie voranzutreiben.

Leave a Reply